Un método para recubrir películas funcionales con una máquina de recubrimiento de vacío

Jun 10, 2025

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Hay dos métodos para recubrir películas funcionales, método CVD y método de PVD. Hoy, el editor le presentará el método de recubrimiento de películas funcionales con una máquina de recubrimiento de vacío, utilizando recubrimiento PVD, con la esperanza de ayudarlo:
El método PVD utiliza formas físicas como la evaporación y la pulverización para eliminar la fuente objetivo del material, y luego transporta energía a través de un espacio de vacío o vacío para depositar los iones de vapor en la superficie del sustrato para formar una película o parte. A través del proceso de reacción de fase gaseosa, la reacción de la fase gaseosa provoca la evaporación y la pulverización de los átomos metálicos, depositando así los compuestos requeridos en la superficie de la herramienta. El recubrimiento de PVD puede cubrir nitruro de titanio, carbonitruro de titanio, nitruro de titanio de aluminio y varios carburos de metal refractario y nitruros.
Los métodos de PVD comúnmente utilizados actualmente incluyen evaporación del haz de electrones de baja presión (LVEE), deposición de arco de electrones de cátodo (CAD), evaporación de haz de electrones de alto voltaje de transistor (Thvee), pulverización de magnetrón desequilibrada (UMS), depósito de haz de haz de iones (IIAD) y mezcla dinámica de haz de iones (dim). La principal diferencia radica en los diferentes métodos de vaporización y métodos de generación de plasma de los materiales depositados, lo que resulta en diferentes velocidades de formación de películas y cualidades de formación de películas.
La tecnología PVD se utiliza principalmente para el tratamiento de superficie de herramientas integrales de carburo y herramientas de acero de alta velocidad, y se ha utilizado ampliamente en el tratamiento de recubrimiento de simulacros de carburo, cortadores de fresadoras, escariadores, grifos, herramientas de forma especial, herramientas de soldadura, etc.
En comparación con CVD, PVD tiene las siguientes ventajas:
La temperatura de recubrimiento (300 ~ 500 grados) es más baja que la temperatura de templado del acero para herramientas de alta velocidad, por lo que no dañará la dureza y la precisión dimensional de las herramientas de acero de herramientas de alta velocidad, y no se requiere tratamiento térmico después del recubrimiento. El grosor efectivo del recubrimiento es de solo unos pocos micras, por lo que se puede garantizar la precisión original de la herramienta, lo cual es adecuado para herramientas con alta precisión de recubrimiento. El recubrimiento tiene alta pureza, buena densidad y el recubrimiento está firmemente unido al sustrato. El rendimiento del recubrimiento no se ve afectado por el material del sustrato. El recubrimiento es uniforme, y no hay engrosamiento o redondeo de la vanguardia y el arco, por lo que las herramientas complejas pueden estar recubiertas uniformemente. No hay fase de descarburización, y el recubrimiento no tiene grietas frágiles causadas por la corrosión de cloro y la deformación del fragilidad de hidrógeno por el método CVD. La cuchilla recubierta tiene alta fuerza. El proceso de trabajo es limpio, sin contaminación y sin contaminación.
En la actualidad, la tecnología PVD de la máquina de recubrimiento de vacío no solo mejora la resistencia de la unión entre la película y el material base de herramientas, sino que también desarrolla la composición de recubrimiento de un solo recubrimiento a una variedad de recubrimientos compuestos, como TIC, TICN, ZRN, CRN, MOS2, TIAIN, TIAICN, TIN-AN, CN, etc. Existe una nueva ruptura en la calidad de la calidad de las herramientas de recubación de PVD. Este recubrimiento de película no solo tiene alta resistencia a la unión, dureza cercana a la CBN, un buen rendimiento antioxidante, sino que también puede controlar efectivamente la forma y la precisión del borde de las herramientas de precisión, el procesamiento de alta precisión y su precisión de procesamiento no es más baja que la de las herramientas desnudas.

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