La máquina de recubrimiento multi-arco genera plasma de alta temperatura a través de múltiples fuentes de arco (4-16), evapora el material metálico y lo deposita en la superficie del sustrato para lograr un recubrimiento eficiente (uniformidad de espesor de película ± 5%). Su cámara de vacío central se divide en una cámara de recubrimiento (grado de vacío menor o igual a 10^-3Pa) y una cámara de pretratamiento. El primero asegura un entorno de baja impureza, y el segundo se utiliza para la limpieza y pulido de sustratos para mejorar la adhesión. Los parámetros clave del proceso incluyen potencia de fuente de arco (20-200A), temperatura del sustrato (100-300 grados) y velocidad de deposición (1-10 nm/s), que deben ajustarse dinámicamente de acuerdo con la forma del sustrato (como las superficies curvas complejas) y el material (metal/cerámico). Es adecuado para escenas como película antirreflección de lentes ópticos y recubrimiento duro de herramientas.
