Evaporación al vacío: el principio es calentar el material de la película con un evaporador en condiciones de vacío para vaporizarlo o sublimarlo, y luego el flujo de partículas evaporadas se dispara directamente hacia el sustrato, donde se deposita para formar una película sólida. La evaporación también se divide en evaporación por haz de electrones, evaporación por resistencia, evaporación por inducción, etc.
Revestimiento iónico: el revestimiento iónico generalmente se refiere a un método de recubrimiento que genera una gran cantidad de iones durante el proceso de recubrimiento. Durante el proceso de formación de la película, el sustrato es bombardeado constantemente con partículas de alta-energía, lo que da como resultado una capa de película muy fuerte con excelente resistencia y adhesión. Cuando se utiliza el revestimiento iónico para crear películas de alta-precisión, se pueden filtrar partículas de iones grandes, lo que da como resultado una película densa y muy estructurada.
Las tecnologías de recubrimiento de equipos de recubrimiento al vacío más comunes en la vida diaria son estas tres. La elección específica depende de qué capa de película se recubrirá y qué pieza de trabajo se recubrirá.
