Hay muchos modelos deequipo de recubrimiento al vacío de iones, los más comunes son los equipos de recubrimiento de iones de arco catódico, los equipos de recubrimiento de acero inoxidable (grandes y pequeños) y los equipos de recubrimiento de iones de azulejos de baño, todos los cuales utilizan tecnología de recubrimiento al vacío de iones de arco múltiple.
En condiciones de vacío, la descarga de gas se utiliza para ionizar gas o material evaporado. Simultáneamente, el material evaporado o sus reactivos se depositan sobre un sustrato mediante el bombardeo de estos iones gaseosos o de iones del material evaporado.
El revestimiento iónico combina descarga luminosa, tecnología de plasma y tecnología de revestimiento por evaporación al vacío.
El recubrimiento iónico al vacío es una tecnología de recubrimiento que combina la evaporación al vacío y la pulverización catódica al vacío. El proceso de recubrimiento iónico implica el uso de descarga de gas en condiciones de vacío para ionizar parcialmente el gas de trabajo o el material a evaporar (material de película). Bajo el bombardeo de iones del gas de trabajo o del material a evaporar, el material evaporado o sus reactivos se depositan sobre la superficie del sustrato.
El recubrimiento tiene buena adherencia, la película no se cae fácilmente, el recubrimiento tiene buenas propiedades envolventes, se mejora la cobertura de la superficie, la calidad del recubrimiento es buena, la tasa de deposición es alta, la velocidad de formación de la película es rápida y la gama de materiales de sustrato y materiales de película a los que se puede aplicar el recubrimiento es amplia.
Los equipos de recubrimiento al vacío de iones cuentan con numerosas ventajas, lo que lleva a su aplicación generalizada en el mercado. Las aplicaciones comunes incluyen revestimientos superduros para herramientas y moldes, y revestimientos decorativos para equipos de golf, relojes, accesorios de baño, accesorios de iluminación, monturas de gafas, productos de ferretería, cerámica y vidrio. Es un sistema de recubrimiento iónico altamente eficiente y libre de contaminación-, caracterizado por una deposición rápida, alta tasa de ionización, alta energía iónica, operación simple, bajo costo y alta capacidad de producción.
