Máquina de recubrimiento de plasma

Máquina de recubrimiento de plasma

Detalles
La máquina de recubrimiento de plasma (generalmente se refiere a la tecnología de recubrimiento de iones en la deposición de vapor físico, como el recubrimiento de iones de pulverización de magnetrón, el recubrimiento de iones de arco, etc.) es una tecnología de tratamiento de superficie avanzada.
Clasificación del producto
Máquina de recubrimiento al vacío
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Descripción
Parámetros técnicos

Principio operativo:

 

La máquina de recubrimiento de plasma (generalmente se refiere a la tecnología de recubrimiento de iones en la deposición de vapor físico, como el recubrimiento de iones de pulverización de magnetrón, el recubrimiento de iones de arco, etc.) es una tecnología de tratamiento de superficie avanzada. Su característica central es utilizar la descarga de gas para generar plasma en un entorno de vacío para ionizar o evaporar el material a plateado (material objetivo), y acelerarlo para bombardear la superficie del sustrato (pieza de trabajo) bajo la acción del campo eléctrico para formar una película delgada fuerte, densa y uniforme.

 

Aplicaciones:

 

1. Industria de herramientas (herramientas, moldes): herramientas de corte, formación de moldes.

 

2. Recubrimiento decorativo: relojes, joyas, hardware de baño, marcos de vasos, fundas para teléfonos móviles, accesorios, fundas electrónicas de productos, interiores automotrices, piezas exteriores.

 

3. Industria de automóviles: anillos de pistón (placos con CRN, DLC, etc. para mejorar la resistencia al desgaste), válvulas, empujes, engranajes, anillos de sincronizador, rodamientos, reflectores de faros (placas con película de aluminio de alta reflectividad), componentes del sensor, etc.

 

4. Campo óptico: lentes de anteojos, lentes de cámara, filtros.

 

5. Medicina y bioingeniería: instrumentos quirúrgicos, ortopedia, implantes dentales

 

 

Características:

 

Strong Film-Substrate Binking:

Los efectos de limpieza y pulverización del bombardeo de iones, así como la alta energía de partículas, hacen que la capa de película y el enlace del sustrato sean muy firmemente.


Película densa y uniforme:

La deposición de partículas de alta energía conduce a la formación de películas delgadas con una estructura densa y pocos defectos.


Buen rendimiento de recubrimiento:

El entorno de plasma hace que la dirección del movimiento de las partículas sea más aleatoria, y la cobertura de recubrimiento de piezas de trabajo de forma compleja (como herramientas, moldes y piezas decorativas) es buena.


Adecuado para recubrimientos duros:

Es particularmente bueno para depositar varios nitruros metálicos, carburos, óxidos y otros recubrimientos super hardos, resistentes al desgaste y resistentes a la corrosión (como estaño, CRN, Tialn, DLC, etc.), y se usa ampliamente en herramientas, moldes, piezas de uso de desgaste, enchapado decorativo y otros campos.


Temperatura de proceso relativamente baja:

Muchos procesos se pueden llevar a cabo en 200-500 grados, lo que reduce el riesgo de deformación térmica del material base (especialmente piezas de precisión, acero para herramientas)


Protección ambiental:

En comparación con la electroplatación tradicional (como la electroplatación de cromo hexavalente), es una tecnología de tratamiento de superficie más amigable con el medio ambiente (sin problemas de contaminación de aguas residuales y de aguas residuales).


Funcionalidad fuerte:

Puede producir una variedad de películas funcionales de alto rendimiento, como metales, aleaciones, cerámica, compuestos, múltiples capas y nanocompuestos

 

Especificación:

 

Máquina de recubrimiento de plasma

Modelo

HL-600

HL-800

HL-1000

HL-1200

HL-1400

HL-1500

HL-1600

Tamaño de la cámara

Φ600 × 800 mm

Φ800 × 1000 mm

Φ1000 × 1200 mm

Φ1200 × 1400 mm

Φ1400 × 1600 mm

Φ1500 × 1500 mm

Φ1600 × 1800 mm

Unidad de aspiración

Unidad de bomba de difusión KT400

Unidad de bomba de difusión KT500

Unidad de bomba de difusión KT500

Unidad de bomba de difusión KT630

Unidad de bomba de difusión doble KT630

Unidad de bomba de difusión doble KT630

Unidad de bomba de difusión doble KT630

Sistema de recubrimiento

Fuente de alimentación de recubrimiento multi-arco dedicada + objetivo de arco de arco de anillo gemelas multi-función + objetivo de arco cilíndrico (opcional)

Sistema de recubrimiento auxiliar

Fuente asistida por iones de baja temperatura (no se requiere sistema de calefacción, excepto el enchapado de la herramienta)

Sistema de inflación

Medidor de flujo de masa

Método de control

Manual o completamente automático

Tasa de bombeo

5 × 10-3PA ﹤ 15 minutos

Vacú final

5x10-4PA

Observación

Los parámetros del equipo anteriores son solo para referencia, y están diseñados y personalizados de acuerdo con los requisitos reales del proceso de los clientes.

 

 

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