La máquina de recubrimiento de vacío óptico de evaporación del haz de electrones debe colocar el material de la película en un crisol de cobre refrigerado por agua y usar directamente el calentamiento del haz de electrones para hacer que los átomos o moléculas en el material de la película se vaporen y escapen de la superficie, luego ingrese a la superficie del sustrato y se condense en una película.
La evaporación del haz de electrones tiene mayor eficiencia térmica, mayor densidad de corriente de haz, velocidad de evaporación más rápida y mayor pureza de la película que la evaporación de calentamiento de resistencia general.
Aplicaciones:
El equipo de recubrimiento de vacío óptico puede cubrir una variedad de sistemas de películas con una gran cantidad de capas, como pase de onda corta, pase de onda larga, película antirreflección, película reflectante, película de filtro, película espectroscópica, película de paso de banda, película dieléctrica, película de alta reflexión, película reflectante de color, etc., etc.
Puede lograr un recubrimiento de películas de 0-50 capas de película, y también puede cumplir con los requisitos de recubrimiento de productos como vidrio reflectante automotriz, anteojos, lentes ópticas, tazas de luz fría, etc.
Puede cubrir una variedad de sistemas de películas con diferentes fuentes de evaporación, pistolas de electrones, fuentes de iones y medidores de espesor de película, y puede evaporar metales, óxidos, compuestos y otros materiales de película de alta fusión.
Características:
La máquina de recubrimiento óptico está equipada con un medidor de espesor de película de cristal de cuarzo, y el sistema PLC y la pantalla táctil se combinan para realizar un control automático de todo el proceso de trabajo, con una excelente eficiencia laboral y repetibilidad de calidad del producto.
Adecuado para el uso de los fabricantes en el campo óptico y los requisitos de producción industrial a gran escala
Especificación:
| Máquina de recubrimiento al vacío óptico | |||||||
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Modelo |
SF-800 |
SF-1200 |
SF-1400 |
SF-1600 |
SFW-1000 |
SFW-1200 |
SFW-1600 |
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Tamaño de la cámara |
Φ800 × 1000 mm |
Φ1200 × 1400 mm |
Φ1400 × 1600 mm |
Φ1600 × 1800 mm |
Φ1000 × 1100 mm |
Φ1200 × 1400 mm |
Φ1600 × 1800 mm |
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Unidad de aspiración |
Unidad de bomba de difusión KT500 |
Unidad de bomba de difusión KT630 |
Unidad de bomba de difusión doble KT630 |
Unidad de bomba de difusión doble KT630 |
Unidad de bomba de difusión KT500 |
Unidad de bomba de difusión KT630 |
Unidad de bomba de difusión doble KT630 |
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Sistema de recubrimiento |
Fuente de evaporación de la pistola de electrones, fuente de alimentación dedicada a iones auxiliares o fuente de iones de pasillo |
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Sistema de inflación |
Controlador de presión |
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Método de control |
Manual o completamente automático |
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Sistema de monitoreo de espesor de película |
Sistema de monitoreo de espesor de película de cristal de cuarzo |
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Tasa de bombeo |
5 × 10-3PA ﹤ 15 minutos |
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Vacú final |
3.0x10-4PA |
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Observación |
Los parámetros del equipo anteriores son solo para referencia, y están diseñados y personalizados de acuerdo con los requisitos reales del proceso de los clientes. |
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