La máquina de recubrimiento al vacío por haz de - consiste en colocar el material de la película en un crisol de cobre -enfriado con agua y utilizar directamente el calentamiento por haz de electrones para hacer que los átomos o moléculas del material de la película se vaporicen y escapen de la superficie, luego ingresen a la superficie del sustrato y se condensen en una película.
La evaporación por haz de electrones tiene una mayor eficiencia térmica, una mayor densidad de corriente del haz, una velocidad de evaporación más rápida y una mayor pureza de la película que la evaporación por calentamiento por resistencia general.
Aplicaciones:
El equipo de recubrimiento óptico al vacío puede recubrir una variedad de sistemas de películas con una gran cantidad de capas, como paso de onda corta-, paso de onda larga-, película anti-reflectante, película reflectante, película de filtro, película espectroscópica, película de paso de banda, película dieléctrica, película altamente reflectante, película reflectante de color, etc.
Puede lograr un recubrimiento de película de 0 a 50 capas de película y también puede cumplir con los requisitos de recubrimiento de productos como vidrio reflectante para automóviles, anteojos, lentes ópticos, vasos de luz fría, etc.
Puede recubrir una variedad de sistemas de película con diferentes fuentes de evaporación, cañones de electrones, fuentes de iones y medidores de espesor de película, y puede evaporar metales, óxidos, compuestos y otros materiales de película de alto-punto de fusión-.
Características:
La máquina de recubrimiento al vacío por haz e-está equipada con un medidor de espesor de película de cristal de cuarzo, y el PLC y el sistema de pantalla táctil se combinan para realizar el control automático de todo el proceso de trabajo, con excelente eficiencia en el trabajo y repetibilidad de la calidad del producto.
Adecuado para uso de fabricantes en el campo óptico y requisitos de producción industrial a gran-escala
Especificación:
| Máquina de recubrimiento al vacío óptica | |||||||
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Modelo |
SF-800 |
SF-1200 |
SF-1400 |
SF-1600 |
SFW-1000 |
SFW-1200 |
SFW-1600 |
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Tamaño de la cámara |
Φ800×1000MM |
Φ1200×1400MM |
Φ1400×1600MM |
Φ1600×1800MM |
Φ1000×1100MM |
Φ1200×1400MM |
Φ1600×1800MM |
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unidad de vacío |
Unidad de bomba de difusión KT500 |
KT630 Unidad de bomba de difusión |
Unidad de bomba de difusión doble KT630 |
Unidad de bomba de difusión doble KT630 |
Unidad de bomba de difusión KT500 |
KT630 Unidad de bomba de difusión |
Unidad de bomba de difusión doble KT630 |
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Sistema de recubrimiento |
Fuente de evaporación de pistola de electrones, fuente de alimentación dedicada de iones auxiliares de recubrimiento o fuente de iones Hall |
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Sistema de inflación |
Controlador de presión |
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método de control |
Manual o completamente automático |
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Sistema de control del espesor de la película. |
Sistema de monitoreo del espesor de la película de cristal de cuarzo. |
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Tasa de bombeo |
5×10-3Pa﹤15min |
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Vacío definitivo |
3.0X10-4Pa |
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Observación |
Los parámetros del equipo anteriores son solo de referencia y están diseñados y personalizados de acuerdo con los requisitos de proceso reales de los clientes. |
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