Principio operativo:
La pulverización de magnetrón es una tecnología de deposición de vapor físico ampliamente utilizada. Su ventaja central radica en su capacidad para depositar películas delgadas uniformes, densas y altamente adhesivas a alta velocidad a temperaturas relativamente bajas, y su amplia gama de selección de materiales objetivo (metales, aleaciones, cerámicas, polímeros, etc.).
Aplicaciones:
Semiconductores y microelectrónica
Revestimiento óptico
Pantalla de panel plano
Revestimiento decorativo
Recubrimiento resistente al desgaste súper duro para herramientas y moldes
Características:
Alta tasa de deposición
Deposición a baja temperatura
Buena calidad de película
Universalidad material
Baja presión de aire de trabajo
Buena capacidad de control de procesos
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