Principio operativo:
Dentro de una cámara de vacío, se utiliza un campo magnético para confinar una descarga luminosa, lo que hace que los iones de argón bombardeen el material objetivo a altas velocidades, los átomos objetivo se pulverizan y depositan sobre la superficie de la pieza de trabajo para formar una película delgada y densa-un proceso clasificado como deposición física de vapor (PVD).
Características del equipo
Compatible con varios tipos de objetivos de pulverización catódica
Admite objetivos de pulverización catódica con magnetrón de CC, MF y RF, admite objetivos metálicos y cerámicos de óxido, lo que permite la deposición de películas dieléctricas tanto metálicas como aislantes.
Mecanismo de revolución y rotación del sustrato.
El bastidor de piezas de trabajo utiliza un sistema de rotación planetaria, lo que permite que las piezas de trabajo dentro del horno giren y giren simultáneamente, lo que garantiza una excelente uniformidad del espesor de la película en toda la carga del horno y minimiza la variación de color.
Sistema de pretratamiento de iones-de baja-temperatura
Equipado con una{0}}fuente de limpieza de iones incorporada, el sistema bombardea la superficie de la pieza de trabajo con plasma antes del recubrimiento para eliminar los contaminantes de aceite y las capas de óxido. Permite la deposición de películas a baja-temperatura con un calentamiento mínimo del sustrato, lo que lo hace adecuado para procesar plásticos-sensibles al calor, como ABS y PC, sin provocar quemaduras ni deformaciones.
Configuración de unidad de vacío independiente
Combinación de una bomba turbomolecular, una bomba Roots y una bomba de paletas rotativas, lo que garantiza una curva de bombeo estable.
Sistema de control industrial PLC completamente automático
Automatización de procesos, las recetas de procesos se pueden almacenar y recuperar con un solo clic.
Control de flujo de gas de precisión
Utiliza múltiples controladores de flujo másico (MFC) para regular con precisión gases reactivos como argón, oxígeno y nitrógeno, lo que lo hace adecuado para la deposición reactiva por pulverización catódica de películas compuestas de óxido y nitruro.
Protección de interbloqueo de seguridad
Incluye enclavamientos para la puerta de la cámara y el sistema de vacío, así como protecciones contra sobrecarga, escasez de agua y corte de energía, apagado automático al detectar anomalías para proteger la fuente objetivo y el sistema de vacío.
Aplicaciones:
Revestimiento decorativo
Cajas de relojes, artículos de baño, cabezas de palos de golf, artesanías, juguetes, reflectores de faros de automóviles y carcasas y botones de teléfonos móviles o electrodomésticos. Capaz de producir revestimientos decorativos de imitación de oro, negro plomizo, ultra-negro y de colores, sirve como una alternativa ecológica-respetuosa y libre de contaminación-a la galvanoplastia tradicional-a base de agua.
Sustratos compatibles: plástico ABS, vidrio, cerámica, azulejos y metales diversos.
Películas funcionales
Moldes y herramientas:-recubrimientos protectores resistentes al desgaste para herramientas de corte y moldes/troqueles














Ventajas
El espesor de la película es controlable y repetible.
Puede depositar de manera confiable una película de espesor predeterminado y el recubrimiento por pulverización catódica puede obtener un espesor de película uniforme en una superficie grande.
La película tiene una fuerte adherencia al sustrato.
Algunos átomos pulverizados de alta-energía producen diferentes grados de inyección, formando una capa de pseudo-difusión sobre el sustrato donde los átomos pulverizados y los átomos del sustrato se fusionan entre sí.
Preparación de películas delgadas de materiales especiales.
Se pueden preparar películas mixtas y películas compuestas pulverizando diferentes materiales al mismo tiempo. Las películas de TiN que imitan el oro también se pueden pulverizar.
La película tiene una alta pureza y la película pulverizada no se mezclará con los componentes del material del calentador del crisol.
Equipado con una fuente auxiliar de iones de baja-temperatura, puede formar películas mediante recubrimiento en frío a temperatura ambiente sin calentamiento, lo que ahorra energía y electricidad y mejora la capacidad de producción.
Especificación:
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Máquina de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón |
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Modelo |
CJ-600 |
CJ-800 |
CJ-1000 |
CJ-1200 |
CJ-1400 |
CJ-1500 |
CJ-1600 |
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Tamaño de la cámara |
Φ600×800MM |
Φ800×1000MM |
Φ1000×1200MM |
Φ1200×1400MM |
Φ1400×1600MM |
Φ1500×1500MM |
Φ1600×1800MM |
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unidad de vacío |
Unidad de bomba de difusión KT400 |
Unidad de bomba de difusión KT500 |
Unidad de bomba de difusión KT800 |
KT630 Unidad de bomba de difusión |
Unidad de bomba de difusión doble KT630 |
Unidad de bomba de difusión doble KT630 |
Unidad de bomba de difusión doble KT630 |
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Sistema de recubrimiento |
Fuente de alimentación de CC o frecuencia media, fuente de alimentación especial de iones auxiliares de recubrimiento |
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Sistema de inflación |
medidor de flujo másico |
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método de control |
Manual o completamente automático |
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Vacío definitivo |
5X10-3Pa |
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Observación |
Los parámetros del equipo anteriores son solo de referencia y están diseñados y personalizados de acuerdo con los requisitos de proceso reales de los clientes. |
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